بازگشت به مقالات
آبکاری پیشرفته|۹ دقیقه مطالعه

الکتروشیمی آبکاری پالسی و پالسی معکوس (Pulse & Pulse-Reverse Plating) در پوشش‌دهی فلزات گرانبها

بررسی تخصصی مکانیزم بازسازی لایه نفوذی مرزی، کاهش ۳۰ درصدی مصرف طلا/نقره و حذف تخلخل در بردهای الکترونیکی حساس.

تصویر اصلی مقاله - الکتروشیمی آبکاری پالسی و پالسی معکوس (Pulse & Pulse-Reverse Plating) در پوشش‌دهی فلزات گرانبها
فرآیند آبکاری با جریان پالسی (Pulse Plating) و پالسی معکوس یکی از نوآوری‌های برجسته الکتروشیمی مدرن است که جایگزین آبکاری با جریان مستقیم مداوم (DC) در صنایع نظامی، هوافضا و ساخت بردهای مدار چاپی (PCB) تراکم بالا شده است. اصول علمی آبکاری پالسی: در این روش، جریان الکتریکی در بازه‌های زمانی میکروثانیه‌ای (Ton) اعمال و سپس خاموش (Toff) یا معکوس می‌شود. در طول دوره Ton، یون‌های طلا یا نقره موجود در لایه مرزی کاتد رسوب می‌کنند. در دوره Toff، فرصت کافی برای نفوذ یون‌های جدید از عمق محلول به سطح کاتد فراهم می‌شود. مزایای کلیدی پالسی معکوس (Pulse-Reverse): ۱. بهینه‌سازی ساختار کریستالی: تبدیل ساختار دانه‌های فلزی از حالت درشت و سوزنی به ساختار متراکم نانوکریستالی. ۲. کاهش ۳۰ درصدی مصرف فلزات گرانبها: حذف ضخامت‌های اضافه در لبه‌ها و زوایای قطعه کار به دلیل یکنواختی کامل قدرت توزیع پوشش (Throwing Power). ۳. کاهش مقاومت تماسی الکتریکی: حذف تخلخل‌های میکروسکوپی (Micro-porosity) که مانع از اکسیداسیون و فرسایش سوکت‌ها و کانکتورهای طلایی می‌شود. ۴. چسبندگی فوق‌العاده: حذف تنش‌های پسماند داخلی لایه آبکاری و جلوگیری از پوسته شدن پوشش تحت تست‌های حرارتی شدید.

الگوی پایداری فرکانس قدرت

محدوده مجاز پایداری جریان خروجی (بالای ۹۹.۵ درصد)
مشاوره فنی رایگان

منبع تغذیه‌ی مناسب فرآیند خود را پیدا کنید

کارشناسان فنی ما آماده‌اند تا بر اساس نوع فرآیند و آمپر مورد نیاز، مناسب‌ترین رکتیفایر را به شما پیشنهاد دهند.

آدرس کارخانه:
شهرک صنعتی قرچک، فاز ۲، خیابان مولوی ۳، پلاک ۸۰

درخواست استعلام سریع

فرم را تکمیل کنید؛ در کوتاه‌ترین زمان با شما تماس می‌گیریم.